平坦化方法(細化晶粒的方法)
1.細化晶粒的方法有哪些
細化晶粒的方法有：降低熔液的澆注溫度、變質(zhì)處理、震動(dòng)攪拌等方法。
1、增大過(guò)冷度可以提高形核率與生長(cháng)速率的比值，從而使晶粒數增大，晶粒細化。 增大過(guò)冷度，實(shí)際上是提高金屬凝固時(shí)的冷卻速度，這可以通過(guò)采用吸熱能力強、導熱性能好的鑄型（如金屬型），以及降低熔液的澆注溫度等措施來(lái)實(shí)現。這種方法對于小型鑄件或薄壁鑄件效果較好，但對于大型鑄件就不合適了。
2、變質(zhì)處理就是向金屬液體中加入一些細小的形核劑（又稱(chēng)為孕育劑或變質(zhì)劑），作為非均勻形核的基底，從而使晶核數大量增加，晶粒顯著(zhù)細化。 變質(zhì)處理是工業(yè)生產(chǎn)中廣泛使用的方法。
3、震動(dòng)、攪拌在澆注和結晶過(guò)程中進(jìn)行機械振動(dòng)或攪拌，也可以顯著(zhù)細化晶粒。這是因為振動(dòng)和攪拌能夠向金屬液體中輸入額外能量、增大能量起伏，從而更加有效地提供形核所需要的形核功。
另一方面，振動(dòng)和攪拌可以使枝晶碎斷，增大晶核數量 方法有機械法、電磁法、超聲波法等。
擴展資料
影響細化效果的因素：
1、細化劑的種類(lèi)。細化劑不同，細化效果也不同。實(shí)踐證明，Al-Ti-B比Al-Ti更為有效。
2、細化劑的用量。一般來(lái)說(shuō)，細化劑加入越多，細化效果越好。但細化劑加入過(guò)多易使熔體中金屬間化合物增多并聚集，影響熔體質(zhì)量。因此在滿(mǎn)足晶粒度的前提下，雜質(zhì)元素加入的越少越好。
從包晶反應的觀(guān)點(diǎn)出發(fā)，為了細化晶粒，Ti的添加量應大于0.15%，但在實(shí)際變形鋁合金中，其他組元（如Fe）以及自然夾雜物（如Al2O3）亦參與了形成晶核的作用，一般只加入0.01%-0.06%便足夠了。
2.光學(xué)鏡片都有哪些拋光方法
拋光粉化學(xué)機械拋光
拋光粉拋光是為了使材料表面達到平整化的方式。傳統的材料平面化技術(shù)較多，如熱流法、回蝕法、旋轉式玻璃法、電子環(huán)繞共振法、低壓CVD、選擇淀積、淀積一腐蝕一淀積、等離子增強CVD等，這些技術(shù)材料平面化工藝發(fā)展中都曾被應用，由于這些技術(shù)都屬于材料的局部平面化技術(shù)，為了能達到全局平面化，使用拋光粉做化學(xué)機械拋光技術(shù)逐步開(kāi)始發(fā)展。
在上世紀的60年代起，使用拋興粉化學(xué)機械拋光技術(shù)應用于硅襯底片的平坦化，從80年代末期開(kāi)始，CMP大規模用于集成電路的ULSI拋光，目前的CMP不僅能保證超高平坦化要求，還能減少表面去除量，現在CMP研究的熱門(mén)是關(guān)于超薄膜的去除和平坦化。從CMP設備的發(fā)展來(lái)看，最初的CMP機臺是單頭工作的，且效率較低、自動(dòng)化程度較差，目前的CMP臺己有多個(gè)機頭，可保證拋光的效率，近期日本的一些公司還研發(fā)了線(xiàn)性?huà)伖鈾C臺。
使用拋光粉做化學(xué)機械拋光是一種兼顧化學(xué)拋光和機械拋光二者優(yōu)點(diǎn)的一種坦化工藝技術(shù)[m-19}CMP過(guò)程可簡(jiǎn)單歸結為：在拋光墊和拋光粉的作用下，首先由于拋光粉的化學(xué)作用使材料表面薄層部分被軟化，隨后在拋光粉、拋光墊的機械作用下將其去除，從而實(shí)現工件表面的高速平坦化。整個(gè)過(guò)程涉及拋光機臺和拋光消耗品，主要消耗品包括拋光粉和拋光墊，大約占據CMP總成本的60% o CMP機理與拋光粉中的化學(xué)分密切相關(guān)，拋光材料影響著(zhù)CMP拋光速率和表面缺陷。
拋光粉
圖1.2是化學(xué)機械拋光設備原理圖，玻璃拋光設備系統大致由四部分組成：玻璃制品、拋光粉、使拋光粉與玻璃制品相互接觸的拋光臺、使拋光臺對玻璃表面研磨的拋光機。在拋光玻璃的實(shí)際過(guò)程中需要考慮很多因素，如玻璃制品、拋光設備、拋光粉及拋光臺的類(lèi)型，以及玻璃制品的件數、拋光的成本、成品的產(chǎn)量和玻璃表面的質(zhì)量等。
拋光機是CMP技術(shù)的基礎，大多數的生產(chǎn)型拋光機臺都有多個(gè)拋頭，以適應拋光不同材料的需要。在化學(xué)機械拋光的研究中，拋光粉是由性能優(yōu)良、顆粒均勻、分散性好、硬度適中的磨料及水和一定量的懸浮劑制備的。目前，CeOa多用于玻璃和硅片的拋光，硅片的拋光常用SiOa, CeOa, ZrOa, AlaOs, Ti0：等或它們的復合粉體。
拋光墊是在CMP過(guò)程中決定拋光速率和平坦化能力的重要消耗品之一，為了能與磨料發(fā)揮更好的作用，拋光墊通常具有一定的機械特性和多孔吸水的特性，拋光墊中的小孔能幫助傳輸磨料和提高拋光均勻性。拋光墊主要有三個(gè)基本類(lèi)型：聚氨脂拋光墊、無(wú)紡布拋光墊、絨毛結構拋光墊。
3.中國鹽堿地改良辦法有哪幾種
一、排水
對地勢低洼的鹽堿地塊，通過(guò)挖排水溝，排出地面水可以帶走部分土壤鹽分。
二、灌水洗鹽
根據“鹽隨水來(lái)，鹽隨水去”的規律，把水灌到地里，在地面形成一定深度的水層，使土壤中的鹽分充分溶解，再從排水溝把溶解的鹽分排走，從而降低土壤的含鹽量。
三、種植水稻
在水源充足的鹽堿地種水稻也是一項可以有效的改良措施。因為種植水稻后，一般田間要經(jīng)常保持水層，土壤含水量處于飽和狀態(tài)，在相同的土壤含鹽量情況下，水田中的鹽分濃度較旱田低，因此，通過(guò)長(cháng)時(shí)間淹灌和排水換水，土壤中的鹽分就可以被淋洗和排出。
四、增施有機肥或土壤調理劑金利
嘉美金利能增加土壤的有機質(zhì)，促進(jìn)團粒結構的形成，改良鹽堿土的通氣、透水和養料狀況，能顯著(zhù)調節土壤的酸堿度到適宜作物生長(cháng)的范圍。
五、深耕深松
對鹽堿地深耕深松，加深耕層，能加速淋鹽，防止返鹽，增強保墑抗旱能力，改良土壤的養分狀況。深耕應注意不要把暗堿翻到地表。
六、客土壓堿
客土就是換土。客土能改善鹽堿地的物理性質(zhì)，有抑鹽、淋鹽、壓堿和增加土壤肥力的作用，可使土壤含鹽量降低到不致危害作物生長(cháng)的程度。俗話(huà)說(shuō)：“砂壓堿，賽金板”就是這個(gè)道理。
七、合理種植
在鹽堿地上種植作物，要根據作物對鹽堿、旱、澇的適應性能，因地種植，合理布局。充分發(fā)揮農業(yè)增產(chǎn)潛力。向日葵、谷類(lèi)、甜菜、大麥等為耐鹽堿性較強的作物，有較高的細胞滲透壓，在較高的鹽分溶液中也可以吸收足夠的水分，不致引起生理干旱造成死亡。
擴展資料
鹽堿地可以分為輕鹽堿地、中度鹽堿地和重鹽堿地。輕鹽堿地是指它的出苗率在70%—80%，它含鹽量在千分之三以下；重鹽堿地是指它的含鹽量超過(guò)千分之六，出苗率低于50%。
中度鹽堿地（用pH值表示為：輕度鹽堿地pH值為：7.1—8.5，中度鹽堿地pH值為：8.5—9.5，重度鹽堿地pH值為：9.5以上）。
我國鹽堿土分布區是根據它的土壤類(lèi)型和氣候條件變化決定的，分為濱海鹽漬區、黃淮海平原鹽漬區、荒漠及荒漠草原鹽漬區、草原鹽漬區四個(gè)大類(lèi)型。
各種鹽堿土都是在一定的自然條件下形成的，其形成的實(shí)質(zhì)主要是各種易溶性鹽類(lèi)在地面作水平方向與垂直方向的重新分配，從而使鹽分在集鹽地區的土壤表層逐漸積聚起來(lái)。
主要形成原因有：
1、氣候條件
在我國東北、西北、華北的干旱、半干旱地區，降水量小，蒸發(fā)量大，溶解在水中的鹽分容易在土壤表層積聚。
夏季雨水多而集中，大量可溶性鹽隨水滲到下層或流走，這就是“脫鹽”季節；春季地表水分蒸發(fā)強烈，地下水中的鹽分隨毛管水上升而聚集在土壤表層，這是主要的“返鹽”季節。
東北、華北、半干旱地區的鹽堿土有明顯的“脫鹽”“返鹽”季節，而西北地區，由于降水量很少，土壤鹽分的季節性變化不明顯。
2、地理條件
地形部位高低對鹽堿土的形成影響很大，地形高低直接影響地表水和地下水的運動(dòng)，也就與鹽分的移動(dòng)和積聚有密切關(guān)系，從大地形看，水溶性鹽隨水從高處向低處移動(dòng)，在低洼地帶積聚。
鹽堿土主要分布在內陸盆地、山間洼地和平坦排水不暢的平原區，如松遼平原。從小地形（局部范圍內）來(lái)看，土壤積鹽情況與大地形正相反，鹽分往往積聚在局部的小凸處。
3、土壤質(zhì)地和地下水
質(zhì)地粗細可影響土壤毛管水運動(dòng)的速度與高度，一般來(lái)說(shuō)，壤質(zhì)土毛管水上升速度較快，高度也高，砂土和粘土積鹽均慢些。
地下水影響土壤鹽堿的關(guān)鍵問(wèn)題是地下水位的高低及地下水礦化度的大小，地下水位高，礦化度大，容易積鹽。
參考資料來(lái)源：百度百科-鹽堿地
4.環(huán)氧地坪漆有什么選擇方法
為了匡助使用地坪裝飾保護涂料的顧客準確地選擇地坪的種類(lèi)和有效控制建設本錢(qián)，建議顧客最好從以下幾個(gè)因素入手： 一、機械機能方面： 1. 耐磨性：地坪在使用時(shí)會(huì )有哪些車(chē)輛行走。
2. 耐壓性：地坪在使用時(shí)會(huì )承受多大荷載。 3. 耐沖擊性：沖擊力是否會(huì )引起地坪面剝離。
二、化學(xué)機能要求方面： 1. 耐酸堿性：使用時(shí)侵蝕性化學(xué)物質(zhì)的種類(lèi)及濃度。 2. 耐溶劑性：使用時(shí)溶劑類(lèi)型及接觸時(shí)間。
三、樓層位置狀況 根據地坪是在地下樓層仍是地面樓層的位置，確定是否需要防潮處理或選擇特殊防潮地坪。 四、基面狀況 1、要求水泥基面牢固、結子、不起殼，杜絕砂漿起殼現象，最好混凝土層與砂漿找平層一起澆注；假如先搗混凝土層，則要求砂漿層的厚度不低于 4cm ，叉車(chē)道則要求更厚一些； 2、要求表面不起砂，硬度好，沒(méi)有水泥粉化現象。
要求 A 、優(yōu)質(zhì)水泥； B 、新倒水泥砂漿層要充分保養； 3、水泥基面平坦、無(wú)凸凹不平、蜂窩麻面、水泥疙瘩； 4、要求地面平整性不大于涂裝要求厚度（用 3 米直尺平靠）； 5、表面干燥，含水量小于 6 ， 保持地面干燥無(wú)油污，切記水泥地面保養期過(guò)后進(jìn)場(chǎng)施工前 5 天，不能用水沖刷或拖把拖地； 6、地坪表面的 PH 值應在 6.0~8.0 ; 7、地面無(wú)油污、其他油漆、乳膠漆、泡泡糖等殘渣； 8、坡度應符合設計要求，答應偏差值為坡度的 2% ，并且不大于 30mm 。
